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技術資料

表面等離子體的研究方法

大氣射頻寬幅輝光等離子表面處理機

等離子清洗原理

     給氣態(tài)物質更多的能量,比如加熱,將會形成等離子體。當?shù)竭_等離子狀態(tài)時,氣態(tài)分子裂變成了許許多多的高度活躍的粒子。這些裂變不是永久的,一旦用于形成等離子體的能量消失,各類粒子重新結合,形成原來的氣體分子。與濕法清洗不同,等離子清洗的機理是依靠處于“等離子態(tài)”的物質的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。從目前各類清洗方法來看,等離子體清洗也是所有清洗方法中最為徹底的剝離式的清洗方式。

    等離子清洗一般是利用激光、微波、電暈放電、熱電離、弧光放電等多種方式將氣體激發(fā)成等離子狀態(tài)。

 

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